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臺(tái)積電3nm工藝工廠進(jìn)展順利 將在三季度開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)

2021-05-27 09:00 Techweb

導(dǎo)讀:同5nm工藝相比,3nm工藝將使晶體管的理論密度提升70%,性能提升15%,能耗降低30%。

據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在5nm制程工藝大規(guī)模量產(chǎn)超過(guò)1年后,芯片代工商臺(tái)積電更先進(jìn)的3nm工藝的量產(chǎn)事宜,也就成了關(guān)注的焦點(diǎn)。

外媒最新的報(bào)道顯示,臺(tái)積電將采用3nm制程工藝代工芯片的新工廠,建設(shè)進(jìn)展順利,并未受到影響。

外媒在報(bào)道中還提到,臺(tái)積電的3nm制程工藝,在三季度就將開(kāi)始風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn),這符合臺(tái)積電CEO魏哲家此前在財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上透露的量產(chǎn)時(shí)間。

在最近幾個(gè)季度的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上,魏哲家均透露3nm工藝將在今年下半年風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)。

在最近幾次的財(cái)報(bào)分析師電話會(huì)議上,魏哲家還透露,他們3nm制程工藝的研發(fā),在按計(jì)劃推進(jìn)。

同5nm工藝相比,3nm工藝將使晶體管的理論密度提升70%,性能提升15%,能耗降低30%。

按臺(tái)積電方面的計(jì)劃,他們的3nm制程工藝,將在2022年大規(guī)模量產(chǎn)。

臺(tái)積電3nm芯片工廠的建設(shè),在2017年就已開(kāi)始謀劃,當(dāng)時(shí)創(chuàng)始人張忠謀還未退休。他在當(dāng)年10月份的一次采訪中透露,保守估計(jì),3nm工廠的建設(shè)將花費(fèi)150億美元,可能達(dá)到200億美元。